普雨科技申请纳米压印模板专利，减小分离应力
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2026-03-04 17:40:53
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国家知识产权局信息显示，普雨科技（苏州）有限公司申请一项名为“纳米压印模板、其制备方法及压印方法”的专利，公开号CN121596655A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请提供了一种纳米压印模板、其制备方法及压印方法，可以应用于微纳制造技术领域。该纳米压印模板，包括：模板本体，模板本体包括多个功能区；每个功能区包括多个特征区，特征区包括多个图形特征，其中，相邻两个功能区的距离为相邻两个特征区的距离的1~3倍。本申请提供的纳米压印模板、其制备方法及压印方法，可以减小分离应力，提升产品良率，增强压印工艺的稳健性与可靠性。
天眼查资料显示，普雨科技（苏州）有限公司，成立于2024年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本692.151万人民币。通过天眼查大数据分析，普雨科技（苏州）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目4次，专利信息12条，此外企业还拥有行政许可2个。
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来源：市场资讯
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