联生佳申请导电耐蚀显卡膜层及其镀膜方法专利，膜层结合力高_科技资讯

联生佳申请导电耐蚀显卡膜层及其镀膜方法专利，膜层结合力高

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2026-02-20 20:41:56

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国家知识产权局信息显示，深圳市联生佳科技有限公司申请一项名为“一种导电耐蚀的显卡膜层及其镀膜方法”的专利，公开号CN121538597A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明属于金属镀膜技术领域，具体涉及一种导电耐蚀的显卡膜层及其镀膜方法。导电耐蚀的显卡膜层的镀膜方法包括以下步骤：步骤一、制备钛铝合金靶材：所述钛铝合金靶材的原料包括钛粉、铝粉、Cr粉和V粉；步骤二、镀膜：使用钛铝合金靶材在显卡支架表面进行镀膜，将显卡支架依次进行辉光清洗，离子清洗，沉积镀层，得到导电耐蚀的显卡膜层。本发明的镀膜方法制备的显卡膜层的膜层结合力高、耐蚀性强、膜层导电率高。

天眼查资料显示，深圳市联生佳科技有限公司，成立于2016年，位于深圳市，是一家以从事金属制品业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市联生佳科技有限公司专利信息28条，此外企业还拥有行政许可4个。

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来源：市场资讯

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