美国不但是晶体管的发明国，还是芯片、光刻技术、光刻机的发明国。但是在后来的发展当中，美国本土的光刻机企业逐渐销声匿迹，唯一的技术火种也在2001年被荷兰的ASML全权收购。自此，美国彻底退出光刻机产业，也放弃了自主光刻机的研发。

在中国发展自主芯片技术的过程中，美国又开始在背后不断干预ASML的运营，以产品禁售的方式来阻碍中国技术的发展。这种对华制裁的政策，也被国际专家解读为“非本国发明综合征”，只允许美国企业以及美国投资的企业发明新的技术产品，不允许其他国家开发出比美国还先进的产品。

1958年，美国物理学家杰伊·莱思罗普从显微镜成像原理中获得灵感，通过倒置显微镜以及柯达公司提供的光刻胶，开发出通过光学系统打印复杂微细电路的方法。该方法的出现，也代表了光刻技术的出现。

1961年，美国GCA（地球物理公司）制造出了全球第一台重复曝光光刻机。先进的设备让GCA迅速占领市场，其市场占有率达到了60%以上。

1973年，由美国军方投资的珀金埃尔默公司制造出了全球第一台投影式光刻机，不但降低了整体制造环节的成本，而且还提升了芯片的良品率。该设备的出现，让珀金埃尔默成为了70年代国际光刻机市场的霸主。

珀金埃尔默的出现，让GCA感觉到了市场威胁。

1978年，GCA又推出了更加先进的自动化步进投影光刻机。该设备不但分辨率更高，而且支持自动化操作，代替了之前需要人工移动晶圆的环节。尽管这款设备的售价高达45万美元，但是市场反响极好，GCA再次夺回光刻机市场的领导地位。

1980年，GCA的业务达到顶峰，但是内部团队却出现了动荡。

其公司创始人格林伯格将自己的精力从带领企业发展技术，转变成了个人享受，出现了奢侈浪费的情况。格林伯格不但购买百万美元的跑车，而且还以考察市场为由，乘坐高端游轮环游世界。这种纸醉金迷的生活让格林伯格在面对客户的时候充满傲气，也让许多采购光刻机的客户对GCA公司高高在上的姿态大为不满。

与此同时，日本的尼康和佳能正在肆意生长。

1970年，佳能推出接近式光刻机。

1980年，尼康推出投影光刻机。

尼康和佳能的光刻机产品不但性能好、稳定性强，而且公司还积极倾听客户的意见，不断优化改进产品，一点点蚕食美国光刻机的市场份额。甚至尼康直接在美国硅谷创建分公司，抢夺美国光刻机企业的客户。

而GCA在后来的发展中也出现了致命的错误，没有一个很好的镜头供应商。

GCA的光刻机镜头供应商是特罗佩尔，这是一个由格林伯格控制的美国光学厂商，但是随着光刻机技术的推进，特罗佩尔无法提供合格的镜头产品，这直接导致了GCA公司走向衰落。

与此同时，由荷兰经纪事务所、ASM公司、飞利浦三家势力合资所成立的ASML正在越级挑战光刻机技术。其公司技术官认为，跟随美国、日本的路线发展光刻机，只能成为跟随者，ASML要直接开发出高水平的自动化设备，甩开竞争对手。

1991年，ASML推出了PAS 5500光刻机，这是一台先进的自动扫描光刻机。该设备的推出，让ASML成为了全球第二，仅次于日本尼康。

而美国本土的光刻机企业在后续的竞争中持续萎靡，不但拼不过光学技术强大的日本企业，甚至连整合供应链技术的ASML也打不过。珀金埃尔默公司被其他企业收购，转型科研仪器的制造。GCA被美国硅谷集团收购，2001年又被ASML全资收购。美国退出了光刻机产业的竞争，但是又以资本注入的方式，躲在ASML背后进行全局操控。

美国是光刻技术的发源地和早期领导者，但技术优势本身具有时效性和动态性，需要企业持续创新并随时适应市场变化。美国企业满足于短期的市场份额，忽视了技术迭代的加速和客户需求的变化，最终在更灵活、更专注的竞争对手面前失去优势。

美国光刻机公司的失败，不仅仅只是技术上面的失败，其根本原因是管理层傲慢、自大并且没有重视客户的反馈，将市场拱手让给了竞争对手。

1990年代，美国政府在组建EUV LLC技术联盟中的决策表明，当涉及核心关键技术时，政治考量往往压倒商业逻辑。美国之所以选择将荷兰的ASML纳入联盟当中，而不是选择技术底蕴更好的日本尼康，就是基于地缘政治而非纯粹技术优劣的决策。

ASML的成功，在于其创建了全球协同创新网络，整合各国顶尖供应商的最优技术。而美国光刻机产业的衰落部分源于过度自信和封闭创新，忽视全球技术资源的整合潜力。日本的光刻机企业虽然注重自主创新，但其产业链相对封闭，错过了浸润式技术和EUV技术的早期开发。

对于中国的光刻机产业来说，虽然被美国封锁了EUV和部分先进的DUV设备，但是美日两国光刻机的落后，给了中国企业发展自主技术的经验。要联合产业链共同构建自主可控的技术体系，注重客户导向，避免重复出现美国企业在企业运营上面的根本性治理失误。