新创电子取得等离子蚀刻清洗槽专利，提高晶圆的清洗效率_科技资讯

新创电子取得等离子蚀刻清洗槽专利，提高晶圆的清洗效率

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2025-07-31 13:21:50

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金融界2025年7月30日消息，国家知识产权局信息显示，新创电子技术（东莞）有限公司取得一项名为“一种等离子蚀刻清洗槽”的专利，授权公告号CN223167443U，申请日期为2024年08月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种等离子蚀刻清洗槽，涉及等离子蚀刻技术领域，包括槽体，所述槽体内侧设置有旋转架，所述旋转架上侧设置有压紧板，所述旋转架和所述压紧板上均设置有晶圆卡槽，所述旋转架一端设置有驱动电机，所述槽体内侧面上设置有限位滑槽，所述限位滑槽内设置有滑动杆，所述滑动杆两端穿设有丝杆，所述丝杆一端设置有伺服电机，所述滑动杆下侧面设置有清洗喷头。本实用新型通过设置的旋转架、压紧板、驱动电机、滑动杆、丝杆、清洗喷头、限位滑槽和伺服电机，晶圆固定在旋转架上，并通过压紧板进行压紧固定，驱动电机可以带动旋转架和晶圆旋转，伺服电机带动丝杆转动，进而使得滑动杆沿着限位滑槽移动，滑动杆下侧的清洗喷头可以将清洗液喷出，进而对旋转的晶圆进行快速清洗，提高晶圆的清洗效率。

天眼查资料显示，新创电子技术（东莞）有限公司，成立于2020年，位于东莞市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本50万人民币。通过天眼查大数据分析，新创电子技术（东莞）有限公司专利信息12条，此外企业还拥有行政许可8个。

来源：金融界

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