芯片制造过程之中，需要几百种设备。而光刻、刻蚀这两道工序是用时最长，最为复杂，且设备成本也是最高的。

光刻机很重要，刻蚀机也一样重要，光刻机是将芯片图案刻录到硅晶圆上，而刻蚀机则是将刻录好的芯片上，不需要部分去掉，可以与光刻是对应的。

光刻机领域，国内的技术确实落后ASML太多，综合来看，落后10年以上，应该是问题不大的。

但刻蚀机这一块，国内的技术却是全球顶尖的，根本就不逊色于全球的任何厂商，原因是我们有一家顶级的刻蚀机厂商-中微公司。

这家企业，由被誉为“中国刻蚀机之父”的尹志尧博士创办。

在2004年的时候，当时已经60岁的尹志尧博士，看到中国半导体产业高速发展，但半导体设备（刻蚀、沉积等）几乎全被海外垄断（应用材料、泛林、东京电子），是卡脖子最严重的环节。

可以说国家最迫切的需求本土的半导体设备，避免被卡脖子，于是本来退休的尹志尧博士，从美国带了15 位硅谷资深爱国华人专家回国创业，这些人这些人之前很多在应用材料等顶级的半导体设备企业工作过，有着大量的经验，有着深厚的技术，平均行业经验20 年 +。

虽然回国从0开始，仅仅3年，就打破了国外刻蚀机领域的长期垄断，研发出了中国人自己的刻蚀机。虽然后来被应用材料等打压，使出了各种招，但不仅没有压住，反而让中微成长更为迅速。

甚至中微还首创了甚高频去耦合反应离子刻蚀技术，这个技术目前已经成为了所有CCP刻蚀机都在使用的技术。

目前中微刻蚀机，已经进入了台积电的供应链。

按照尹志尧博士的说法，台积电最先进的生产线上，也使用中微的刻蚀机，有中微800多个反应台，从45纳米到3纳米都在用中微的机器，作为全球最顶级的晶圆厂，台积电使用中微的设备，就足以证明中微有多强了。

当然，中国大陆的晶圆厂也在使用中微的设备，尹志尧博士称，中芯也使用了中微至少800多台设备。

并且大家不知道的是，目前中微实现了全供应链的100%自主化，不用担心任何人卡脖子，不会担心国外不提供元件什么的，不怕国外卡住了生产设备，因为根本就不需要，全部国产化了。

所以说，并不是中国自己研发不出好的半导体设备出来，只要肯努力，都是没问题的，像中微这样的企业，还有像北方华创这样的企业，多几家，那么中国在芯片设备上，就可以减少对外依赖，那么所谓的禁令，也就毫无意义了。