芯源微申请准分子紫外清洗用结构专利，有效减少清洗作业耗时_科技资讯

芯源微申请准分子紫外清洗用结构专利，有效减少清洗作业耗时

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2026-02-23 02:22:07

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国家知识产权局信息显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请一项名为“一种准分子紫外清洗用结构”的专利，公开号CN121548249A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明属于半导体设备技术领域，具体地说是一种准分子紫外清洗用结构，包括准分子紫外光源、照射工艺腔体边框、可升降承片台、密封环。密封环设置于可升降承片台的底部外边缘处。可升降承片台由对应升降结构带动相对照射工艺腔体边框升降。照射工艺腔体边框的其中一侧边缘的内部开设有进气通道，另一侧边缘的内部开设有排气通道。本发明能够有效对方形基板进行准分子紫外清洗，对有机物颗粒的清洗率高，使用时仅需对可升降承片台、密封环、照射工艺腔体边框以及盖在照射工艺腔体边框上的光源外壳的底部所包围形成的照射工艺空间进行气体排出，所需排出气体的量大幅度减少，有效减少清洗作业耗时，提高清洗速率。

天眼查资料显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20162.7296万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目329次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息669条，此外企业还拥有行政许可67个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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