国家知识产权局信息显示,沈阳天科合达半导体设备有限公司取得一项名为“一种水冷托盘装置”的专利,授权公告号CN223892920U,申请日期为2025年4月。
专利摘要显示,一种水冷托盘装置属于真空设备技术领域。本实用新型包括连接板和连接底托,所述连接板连接在托盘上方,所述连接底托连接在托盘下方,所述连接板上方设置有水路板,所述水路板上方设置有上盖,所述上盖与托盘上沿连接,所述连接板中部与水路内管固定在一起,所述水路内管延伸至所述上盖与所述水路板之间,所述连接底托与水路外管连接,所述水路外管延伸至托盘和所述连接板之间,所述水路内管位于所述水路外管内,所述水路外管上分别连接有内水水嘴和外水水嘴,所述内水水嘴与所述水路内管内部连通,所述外水水嘴与所述水路外管与所述水路内管之间的空间连通。本实用新型能够实现对托盘的快速降温,提高了托盘降温的稳定性,从而提高生产效率。
天眼查资料显示,沈阳天科合达半导体设备有限公司,成立于2020年,位于沈阳市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,沈阳天科合达半导体设备有限公司参与招投标项目3次,专利信息18条,此外企业还拥有行政许可11个。
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来源:市场资讯