晶合集成获得发明专利授权:“接触孔的清洗方法及清洗装置”
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2026-02-11 05:00:53
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示晶合集成(688249)新获得一项发明专利授权,专利名为“接触孔的清洗方法及清洗装置”,专利申请号为CN202511695222.4,授权日为2026年2月10日。

专利摘要:本发明提供了一种接触孔的清洗方法及清洗装置,属于半导体领域。所述接触孔的清洗方法包括:在接触孔中导入温度响应性试剂;调控温度使温度响应性试剂转换为高粘度凝胶态,粘附接触孔内的残留物;调控温度使处于凝胶态的温度响应性试剂固化;通过移动组件将固化后的温度响应性试剂从接触孔中移除。采用该方法清洗接触孔,可以确保能将接触孔内的残留物完全去除,还可以确保接触孔的形貌较好。

今年以来晶合集成新获得专利授权61个,较去年同期增加了205%。结合公司2025年中报财务数据,2025上半年公司在研发方面投入了6.95亿元,同比增13.13%。

通过天眼查大数据分析,合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了10家企业,参与招投标项目636次;财产线索方面有商标信息75条,专利信息1616条,著作权信息9条;此外企业还拥有行政许可22个。

数据来源:天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理,由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号),不构成投资建议。

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