拓荆科技申请薄膜沉积设备专利，提升薄膜沉积的均匀性_科技资讯

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2026-02-09 00:20:26

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国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“一种薄膜沉积设备、半导体器件的加工方法及存储介质”的专利，公开号CN121472833A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明提供了一种薄膜沉积设备、半导体器件的加工方法及存储介质。所述薄膜沉积设备包括：缓冲腔，包括隔板、第一加热机构及冷却机构，其中，所述隔板横向安装于所述缓冲腔的内部，以将所述缓冲腔分隔为第一隔层及第二隔层，所述第一加热机构安装于所述第一隔层，所述冷却机构安装于所述第二隔层。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目37次，专利信息370条，此外企业还拥有行政许可40个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

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