国家知识产权局信息显示,三星显示有限公司申请一项名为“溅射设备的清洁方法、溅射方法和溅射系统”的专利,公开号CN121344526A,申请日期为2025年7月。
专利摘要显示,提供了溅射设备的清洁方法、溅射方法和溅射系统。溅射设备的清洁方法包括:去除沉积在溅射设备中的第一材料的一部分;以及在去除沉积在溅射设备中的第一材料的一部分之后,使沉积在溅射设备中的第一材料的剩余部分氧化。溅射设备包括提供工艺空间的工艺室、在工艺空间内的工作台、提供延伸到工艺空间的等离子体放电空间的放电管、以及缠绕放电管的射频(RF)线圈。使沉积在溅射设备中的第一材料的剩余部分氧化包括:将氧气体供给到等离子体放电空间。
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来源:市场资讯