【太平洋科技资讯】近日，据日本媒体《日刊工业新闻》报道，全球知名半导体制造商美光将斥资 6000~8000 亿日元，在日本广岛建设新的 DRAM 内存晶圆厂。该晶圆厂将引进先进的 EUV 光刻机，预计将于 2026 年初动工，有望在 2027 年末正式投产。

美光计划在 2025 年量产的下代 1-gamma (nm) 节点正式导入 EUV 光刻技术。考虑到 DRAM 行业的代际周期，新工厂将具备生产 1-gamma 乃至 1-delta DRAM 的能力。这一决策表明美光对于 DRAM 市场的前景保持乐观态度，并期望通过投资新技术和设备来保持其市场地位。

然而，美光在计划建设新晶圆厂的过程中，也遇到了一些挑战。原计划在今年就启动新晶圆厂的运行，以便在 2025 年量产后的第一时间扩充 1-gamma DRAM 制造能力。但是，由于此前半导体行业，尤其是存储领域的衰退，美光对投资计划进行了调整，放缓了产能扩张的速度。这一决策反映了美光对行业趋势的敏锐洞察，并灵活应对市场变化的能力。

为了应对资金压力，美光建设新厂的部分开支将来源于日本经济产业省的补贴。这笔资金至高可达 1920 亿日元，对于美光来说无疑是一笔重要的支持。这也反映出日本政府对于半导体产业发展的重视，以及对于本土企业发展的支持。

美光在日本广岛建设新的 DRAM 内存晶圆厂，将引进先进的 EUV 光刻机，并计划在 2027 年末正式投产。这一决策不仅表明美光对 DRAM 市场前景的信心，也反映出其对行业趋势的敏锐洞察和灵活应对市场变化的能力。此外，日本政府对半导体产业的支持也为美光提供了重要的资金支持，有望推动该地区半导体产业的发展。