这几天，有很多媒体报道称，俄罗斯研发出了新光刻机，从无到有，史上第一台，标志着俄罗斯在半导体产业自主化道路上迈出了坚实的一步。

一时之间，众多媒体报道称，这是俄罗斯半导体的胜利，俄罗斯用实际行动告诉我们，只要肯努力，美国的封锁不可怕，中国要向俄罗斯学习……

我还以为俄罗斯研发出了什么高端光刻机，以为是浸润式光刻机，或者EUV光刻机，值得大家这么膜拜？

于是我仔细的找了找，最后让我大失所望，原来是一台350nm精度的光刻机，和DUV、EUV都无关，从实际光刻机的演进历史来看，落后了至少是30多年吧。

我就搞不懂了，这么一台光刻机，有什么好激动了，俄罗斯激动就激动罢了，中国媒体，中国网友有什么好激动的。

给大家上个图，这是芯片工艺，对应的光刻机，按照350nm工艺来看的话，对应的应该是i-line光刻机，这玩意，在上世纪的80年代末就已经研发出了，不说ASML、日本这样的光刻机强国，对中国来说，都是小意思。

俄罗斯研发出这个东西，值得大家高兴么？而中国的光刻机水平呢，实际上早达到了ArF的水平，也就是采用193nm光源，可以制造90nm的芯片的阶段，甚至多重曝光后，能制造的芯片工艺更高，这种光刻机，也比俄罗斯研发出来的这种i线光刻机领先20年以上吧。

而从俄罗斯的i线光刻机，到中国能够研制出来的ArF光刻机，中间隔了20来年的历史。而从ArF再到EUV光刻机，中间可能又隔了几十年的技术演进。

以俄罗斯的现在的水准和技术，以及市场规模，资金实力，也许研发出中国现在能够研发出来的ArF光刻机，都可能是遥遥无期，大家激动个啥呢？

诚然，站在盟友的立场，我们是应该给一点鼓励，但说实话，大家其实是对光刻机技术、光刻机知识，一无所知，以为突破就值得激动。

以俄罗斯目前的半导体水平，以及半导体市场规模，我觉得还是别研发了，这落后30多年的产品，完全没有什么意义。

也许直接从中国买，可能更靠谱，毕竟中国卖几台i线光刻机，不过是轻而易举，甚至卖几台ArF也没问题，因为这玩意在美国看来，还是太落后了，美国都懒得禁。