如果说半导体是现代工业的“心脏”,那光刻机就是这个心脏的“起搏器”。当美国对中国高端芯片下狠手时,不少人心里就冒出了一个念头:既然日本的光刻机技术也很强,甚至在某些领域还比美国更能打,那我们为什么不直接去找日本买?
听起来是个绕开封锁的好主意,但现实却远不像看起来那样简单。日本,那个曾经在光刻机领域风光无限的国家,如今的角色,早已悄悄发生了变化。
上世纪80年代,日本的光刻机几乎横扫全球市场。尼康、佳能两个日本品牌,一度占据全球七成的市场份额。你能想到的芯片大厂——英特尔、三星、台积电,几乎都在用日本的设备。那时候的日本,就像是光刻机界的“武林盟主”。
但风水轮流转,到了今天,高端光刻机的舞台,已然被荷兰的ASML一统江湖。尤其是最关键的EUV设备(极紫外光刻机),ASML一家独大,占据全球91%的市场份额。日本呢?还在为中低端光刻机市场“打工”,比如i线、DUV设备,在成熟节点上还能扳回一局。
不是日本不想争口气,而是现实太骨感。2000年后,日本对高端光刻技术的投入明显缩水,尼康甚至在2010年选择退出EUV研发联盟。这就好比别人还在全力冲刺,你却突然停下来喝水歇脚,等回过神来,已经被远远甩在后头。
而且,ASML之所以能“封神”,靠的不是一国之力,而是集全球顶尖技术于一体——德国的蔡司镜头、美国的光源系统、日本的光掩膜材料,都是它的“外挂”。反观日本,过于封闭的研发思路,严重限制了技术突破。
所以,当中国想在EUV领域寻找“替代选手”时,日本这位“曾经的霸主”,早已不在主角名单里。
很多人也许会说,就算日本不搞EUV,那中低端光刻机也能凑合着用吧?比如尼康的ArF浸没式光刻机,理论上能支持到7nm工艺,听起来确实不错。但问题是——你想买,日本愿意卖吗?
2023年3月,日本政府宣布将对包括光刻机在内的23种半导体设备实施出口管制。这不是一般的“走程序”,而是你得一项项申请,最终还要看日本经济产业省点不点头。结果呢?据《日本经济新闻》披露,实际审批通过率不到20%。
2024年4月,日本更进一步,把GAAFET(全环绕栅极晶体管)等先进技术也纳入管制范围。这可不是单打独斗,而是和美国、荷兰一起搞的“美日荷三方联盟”,专门掐中国的脖子。
从表面看,日本的设备确实还在进入中国。比如2023年,中国从日本进口了将近30亿美元的光刻设备,占总进口额的四分之一。但你仔细看就会发现,这些大多是用在90nm、65nm这样“成熟工艺”的设备,真正关键的ArF浸没式光刻机,基本都被卡在审批环节。
为什么日本这么配合美国?背后的逻辑很现实。日本不是怕中国买,而是怕美国不高兴。作为美日安保同盟的一环,日本在半导体问题上几乎没有独立的决策权。更何况,美国早就用“东芝事件”给日本上过一课,那次教训让日本企业几十年都不敢越雷池一步。
就算从商业角度看,日本也不想过度依赖中国市场。一方面怕“被制裁”,一方面又怕“被吸干”。所以只能小心翼翼地踩在“能卖就卖、不能过底线”的红线上。
面对美国的步步紧逼,很多人开始意识到:靠进口,永远只能是“临时抱佛脚”,真正的出路,是自己造。这不是口号,而是正在发生的现实。
从2014年《国家集成电路产业发展推进纲要》出台,到如今的“十四五”规划,中国在半导体领域的投入力度,全球罕见。你可能不知道,仅“大基金”一期和二期的总投资就超过3000亿元。
而且,这些钱真不是砸进黑洞。比如上海微电子,2023年推出的SSA800-10W光刻机,已经可以支持28nm工艺。虽然和EUV还差十万八千里,但至少已经摆脱了“0”的困境。根据公司披露,2025年有望实现14nm的突破。
这还只是冰山一角。中科院在研究DPP-EUV光源,华为公开了多项光刻相关专利,长春光机所也在搞国产镜头替代计划。各路“补短板”的项目齐头并进,产业链也在悄悄补课。
当然,问题也不少。最现实的是——高端人才太少,核心部件仍靠进口。比如蔡司的光学镜头、ASML的双工件台,这些关键零部件,还是绕不开西方供应链。
但你得承认,中国的优势从来就不是“起点高”,而是“跑得快”。庞大的市场、政策的连续性,还有一大批愿意熬十年、二十年打硬仗的工程师,正是中国走自主路线的底气。
光刻机这场“科技封锁战”看似是一台设备的争夺,实际上是一次产业结构的大洗牌。日本早已不再是那个可以“拯救”中国的技术备胎,而更像是一个在美日联盟中谨小慎微的配角。
靠别人永远只能买来“温饱线”,想要真正吃得饱、吃得好,还是得自己种田。日本的崛起与衰落,给中国敲响了警钟,也提供了借鉴。中国不缺市场、不缺政策、不缺工程师,缺的是时间与坚持。
所以,不是我们不想买日本光刻机,而是它卖不了我们想要的那一款。真正能解“卡脖子”之困的,不是进口清单,而是实验室里的那一道光。